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          UV激光曝光系统

          扫描曝光方式特点:  
          1.光束垂直高度<=0.23°; 
          2.工作幅面一般100mm×100mm,可定制; 
          3.光斑能量密度高; 
          4.不需掩膜,可精确曝光三维图形; 
          5.可快速修改任意曝光图形。 

          掩膜曝光方式特点:

          1.光束直径可达φ100mm,可定制; 
          2.光束发散角小,光束准直度可达到5μrad; 
          3.可精确曝光三维图形; 
          4.对环境温度要求不高。
          应用领域:FPC、数码产品、印刷等。
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